场发射扫描电镜(HITACHI,S-4800)
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用于材料表面形貌观察,包括显微结构、尺寸及相互作用、相组成及相分布等;用于材料成分分析,包括元素定性分析、定量分析、线分析、面分析等。
主要技术指标
(1)二次电子分辨率:1.0nm(15kV),1.4nm(1kV,WD=1.5mm,减速模式),2.0nm(1kV,WD=1.5mm,普通模式);
(2)放大倍数:低倍模式×20-×2000,高倍模式×30-×800000;
(3)加速电压:0.5-30kV(0.1kV/步,可变,普通模式);
(4)样品台:X:0-50mm,Y:0-50mm,Z:1.5-30mm,T:-5-+70°,R:360°;
(5)样品最大尺寸:直径100mm。